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MECHANISMUS DER AUSBILDUNG DER FOTOGRAFISCHEN BILDUNG: Monographie/ A.Yu. Akhmerov - Düsseldorf: LAP LAMBERT Academic Publishing GmbH & Co.KG., 2020. - ¿ 79 c. .Mit Hilfe der Lumineszenzmethode hat der Autor einen neuen - "isolierenden" - Mechanismus der Supersensibilisierung von Halogen-Silber-Photomaterialien (HF) durch hydrophobe Verbindungen untersucht und begründet. Die Monografie besteht aus einer Einleitung, vier Kapiteln und einem Schluss. Das erste Kapitel gibt einen kurzen literarischen Überblick über die experimentellen Ergebnisse zum Einfluss elektrischer Felder auf die Empfindlichkeit von Photomaterialien und stellt die Theorie der Ionisierung von Halbleitern vor. Die Fragen der Erhöhung der Effizienz der spektralen Sensibilisierung von HF werden betrachtet. Das zweite Kapitel beschreibt den experimentellen Aufbau und die Messtechnik von Silberhalogenid-Lumineszenzspektren. Im dritten Kapitel werden die experimentellen Ergebnisse zur elektroinduzierten Lumineszenz von Silberhalogeniden und deren Diskussion vorgestellt. Das vierte Kapitel beschreibt die Ergebnisse der Studie über den "Isolations"-Mechanismus der Supersensibilisierung von HF. Die Schlussfolgerungen der Studie sind in der Schlussfolgerung aufgeführt.
A propos de l'auteur
Alexander Akhmerov, Doctor en Filosofía, Jefe de Laboratorio. Secretario científico. Investigador principal del Instituto de Investigación de Física de la Universidad Nacional de Odessa, que lleva el nombre de I.I. Mechnikov.
