Fr. 26.50

Patent- und Designrecht. PatR - Textausgabe zum deutschen, europäischen und internationalen Patent-, Gebrauchsmuster- und Designrecht. Rechtsstand: 1. März 2025

Deutsch · Taschenbuch

Versand in der Regel in 4 bis 7 Arbeitstagen

Beschreibung

Mehr lesen

Inhalt
ArbeitnehmererfindungsG, Biomaterial-HinterlegungsVO, DesignG, Einheitliches PatentgerichtÜbK, Europäisches PatentÜbK, GebrauchsmusterG, G über intern. PatÜbk, Haager Abkommen (Hinterlegung), HalbleiterschutzG, PatentVO, PatentG, PatentkostenG, Pariser Verbandsübereinkunft, SortenschutzG, TRIPS

Neuauflage
Die 18. Auflage enthält die neue EG-MusterschutzRL und berücksichtigt u.a. Änderungen des PatentG, der AusführungsO zum EPÜ, des EPGÜ, der Gem.-GeschmacksmusterVO und der HaagAbkAO

Zielgruppe
Für Behörden, Richterinnen und Richter, Rechtsanwältinnen und Rechtsanwälte sowie Unternehmen.

Zusammenfassung

Inhalt
ArbeitnehmererfindungsG, Biomaterial-HinterlegungsVO, DesignG, Einheitliches PatentgerichtÜbK, Europäisches PatentÜbK, GebrauchsmusterG, G über intern. PatÜbk, Haager Abkommen (Hinterlegung), HalbleiterschutzG, PatentVO, PatentG, PatentkostenG, Pariser Verbandsübereinkunft, SortenschutzG, TRIPS

Neuauflage
Die 18. Auflage enthält die neue EG-MusterschutzRL und berücksichtigt u.a. Änderungen des PatentG, der AusführungsO zum EPÜ, des EPGÜ, der Gem.-GeschmacksmusterVO und der HaagAbkAO

Zielgruppe
Für Behörden, Richterinnen und Richter, Rechtsanwältinnen und Rechtsanwälte sowie Unternehmen.

Kundenrezensionen

Zu diesem Artikel wurden noch keine Rezensionen verfasst. Schreibe die erste Bewertung und sei anderen Benutzern bei der Kaufentscheidung behilflich.

Schreibe eine Rezension

Top oder Flop? Schreibe deine eigene Rezension.

Für Mitteilungen an CeDe.ch kannst du das Kontaktformular benutzen.

Die mit * markierten Eingabefelder müssen zwingend ausgefüllt werden.

Mit dem Absenden dieses Formulars erklärst du dich mit unseren Datenschutzbestimmungen einverstanden.