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Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz. PatG, GebrMG - Kommentar

Deutsch · Fester Einband

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Beschreibung

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Zum Werk
Das Patentgesetz und das Gebrauchsmustergesetz stehen im Mittelpunkt des Gewerblichen Rechtsschutzes und sind von großer Bedeutung für alle Patentanwältinnen und Patentanwälte, mit Patentstreitigkeiten befassten Rechtsanwältinnen und Rechtsanwälte sowie Unternehmen, die ihre Erfindungen schützen wollen oder gegen Schutzanmaßungen Dritter vorgehen müssen.
Der Praxiskommentar verbindet das Patentrecht mit dem eng verwandten Gebrauchsmusterrecht. Vorrangiger Bezugspunkt der Erläuterungen ist die Rechtsprechung sowohl der Instanzgerichte, des BPatG und des BGH als auch der Beschwerdekammern des Deutschen Patent- und Markenamtes und des Europäischen Patentamts. Eine Stärke des Kommentars ist, dass auch das Marken- und Geschmacksmusterrecht, das Recht des unlauteren Wettbewerbs und das Urheberrecht in die Erläuterungen einbezogen sind.

Vorteile auf einen Blick

  • prägnant und praxisorientiert
  • rechtsprechungsorientiert
  • wichtige Nebenvorschriften im Textanhang

Zur Neuauflage
Die Neuauflage berücksichtigt u.a.:
  • das Zweite Gesetz zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts vom 10. August 2021 mit seinen zahlreichen und weitreichenden Änderungen
  • zahlreiche Entscheidungen des Bundesgerichtshofs, der Instanzgerichte und des Bundespatentgerichts
  • wichtige Entscheidungen des Deutschen Patent- und Markenamts (DPMA), des Europäischen Patentamts (EPA), des Bundesverfassungsgerichts (BVerfG), des Europäischen Gerichtshofs (EuGH) und des Europäischen Gerichts erster Instanz (EuG)
  • Maßgebliche Entscheidungen der Instanzgerichte, insbesondere Oberlandesgerichte

Zielgruppe
Für Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Referendarinnen und Referendare, Assessorinnen und Assessoren sowie sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.

Zusammenfassung

Zum Werk

Das Patentgesetz und das Gebrauchsmustergesetz stehen im Mittelpunkt des Gewerblichen Rechtsschutzes und sind von großer Bedeutung für alle Patentanwältinnen und Patentanwälte, mit Patentstreitigkeiten befassten Rechtsanwältinnen und Rechtsanwälte sowie Unternehmen, die ihre Erfindungen schützen wollen oder gegen Schutzanmaßungen Dritter vorgehen müssen.


Der Praxiskommentar verbindet das Patentrecht mit dem eng verwandten Gebrauchsmusterrecht. Vorrangiger Bezugspunkt der Erläuterungen ist die Rechtsprechung sowohl der Instanzgerichte, des BPatG und des BGH als auch der Beschwerdekammern des Deutschen Patent- und Markenamtes und des Europäischen Patentamts. Eine Stärke des Kommentars ist, dass auch das Marken- und Geschmacksmusterrecht, das Recht des unlauteren Wettbewerbs und das Urheberrecht in die Erläuterungen einbezogen sind.


Vorteile auf einen Blick

  • prägnant und praxisorientiert
  • rechtsprechungsorientiert
  • wichtige Nebenvorschriften im Textanhang

Zur Neuauflage

Die Neuauflage berücksichtigt u.a.:
  • das Zweite Gesetz zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts vom 10. August 2021 mit seinen zahlreichen und weitreichenden Änderungen
  • zahlreiche Entscheidungen des Bundesgerichtshofs, der Instanzgerichte und des Bundespatentgerichts
  • wichtige Entscheidungen des Deutschen Patent- und Markenamts (DPMA), des Europäischen Patentamts (EPA), des Bundesverfassungsgerichts (BVerfG), des Europäischen Gerichtshofs (EuGH) und des Europäischen Gerichts erster Instanz (EuG)
  • Maßgebliche Entscheidungen der Instanzgerichte, insbesondere Oberlandesgerichte

Zielgruppe

Für Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Referendarinnen und Referendare, Assessorinnen und Assessoren sowie sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.

Produktdetails

Autoren Peter Mes
Mitarbeit Axel Verhauwen (Herausgeber)
Verlag Beck Juristischer Verlag
 
Sprache Deutsch
Produktform Fester Einband
Erschienen 01.09.2024
 
EAN 9783406825958
ISBN 978-3-406-82595-8
Seiten 1940
Abmessung 141 mm x 50 mm x 202 mm
Gewicht 1068 g
Serie Gelbe Erläuterungsbücher
Themen Sozialwissenschaften, Recht,Wirtschaft > Recht > Handels-, Wirtschaftsrecht

Erfindung, Patentamt, Patentanmeldung, W-RSW_Rabatt, Patentverletzung, Patentgericht, Schutzfähigkeit, GebrMG, PatG, PatKostG, Patentlizenz, Schutzzertifikat, PatV, Patentstreitsachen

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