Patentgesetz. PatG - Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz

Zum Werk
Dieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum internationalen und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt.

Vorteile auf einen Blick

• Erläuterung durch erfahrene Praktikerinnen und Praktiker
• Gründliche Darstellung nach deutschem Kommentarstandard
• Mitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes

Zur Neuauflage
Die Neuauflage berücksichtigt die aktuellen Entwicklungen in Rechtsprechung und Gesetzgebung und wird sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht.
Behandelt werden etwa Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG).
Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs.

Zielgruppe
Für Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Studium, Referendariat und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.

Zusammenfassung

Zum Werk
Dieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum internationalen und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt.

Vorteile auf einen Blick

• Erläuterung durch erfahrene Praktikerinnen und Praktiker
• Gründliche Darstellung nach deutschem Kommentarstandard
• Mitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes

Zur Neuauflage
Die Neuauflage berücksichtigt die aktuellen Entwicklungen in Rechtsprechung und Gesetzgebung und wird sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht.
Behandelt werden etwa Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG).
Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs.

Zielgruppe
Für Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Studium, Referendariat und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.

Produktdetails

• Autoren: Georg Benkard
• Mitarbeit: Stefan Kettler (Illustration), Klaus Bacher (Herausgeber), Hermann Deichfuss u a (Herausgeber), Clau Dietrich Asendorf (Herausgeber), Claus Dietrich Asendorf (Herausgeber), Friedrich-Wilhelm Engel (Herausgeber), Stephan Fricke u a (Herausgeber)
• Verlag: Beck Juristischer Verlag
• Sprache: Deutsch
• Produktform: Fester Einband
• Erschienen: 03.07.2023
• EAN: 9783406727894
• ISBN: 978-3-406-72789-4
• Seiten: 2501
• Abmessung: 179 mm x 68 mm x 247 mm
• Gewicht: 2124 g
• Serie: Beck'sche Kurz-Kommentare
• Themen: Sozialwissenschaften, Recht,Wirtschaft > Recht > Handels-, Wirtschaftsrecht; Erfindung, Geschäftsgeheimnis, Patentrecht, W-RSW_Rabatt, Einheitspatent, GebrMG, PatG, PatKostG, Biomaterial, Hinterlegungsordnung, Lizenzgebühr