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Filmes finos de carbono amorfo hidrogenado são depositados em materiais para melhorar ou acrescentar propriedades, como dureza, tenacidade e coeficiente de fricção, qualificando-os para o uso em diferentes áreas. Neste trabalho, foram crescidos filmes finos em uma câmara PECVD sob diferentes pressões e temperaturas, enquanto se mantinham fixos parâmetros como a proporção dos gases: 70% de acetileno e 30% de argônio, tempo de 60 minutos para cada deposição, distância de 20mm entre eletrodos e tensão de 600V. Os dados de ângulo de contato possibilitaram observar sua dependência com a temperatura e a pressão de deposição, resultando em filmes com características hidrofílicas e hidrofóbicas. A análise dos espectros gerados por espectroscopia Raman mostrou a intensidade, largura de meia altura e posição das bandas D e G, características de filmes de a-C:H e que indicam a desordem estrutural e topológica da superfície. A análise por microscopia eletrônica de varredura indicou a formação de estruturas hierárquicas que influenciam no estado de molhabilidade desses filmes.
Über den Autor / die Autorin
Possui graduação e mestrado em Física pela Universidade do Estado de Santa Catarina. Tem experiência na área de Física, tendo trabalhado no estudo de Filmes Finos e em Ensino de Física. Possui experiência como professor no ensino médio e no ensino superior. Atualmente é professor efetivo na rede estadual de ensino de Santa Catarina.
