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Characterization and chemical recovery of plasma damaged porous low-k SiOCH dielectric for the semiconductor industry.
Englisch
01.01.2012
Taschenbuch
vergriffen
Untersuchung der Auflösungsgrenzen eines Variablen Formstrahlelektronenschreibers mit Hilfe chemisch verstärkter und nicht verstärkter Negativlacke.
Deutsch
01.01.2011
Taschenbuch
vergriffen
Die Kinetik der elektrochemischen Kupferabscheidung in Sub-100-nm-Strukturen.
Deutsch
01.01.2011
Taschenbuch
vergriffen