Fr. 188.00

Theory and Application of Laser Chemical Vapor Deposition

Inglese · Tascabile

Spedizione di solito entro 1 a 2 settimane (il titolo viene stampato sull'ordine)

Descrizione

Ulteriori informazioni

In this monograph, the authors offer a comprehensive examination of the latest research on Laser Chemical Vapor Deposition (LCVD). Chapters explore the physics of LCVD as well as the principles of a wide range of related phenomena-including laser-matter interactions, heat transfer, fluid flow, chemical kinetics, and adsorption. With this reference, researchers will discover how to apply these principles to developing theories about various types of LCVD processes; gain greater insight into the basic mechanisms of LCVD; and obtain the ability to design and control an LCVD system.

Sommario

1. Introduction.- 2. Pyrolytic LCVD.- 3. Photolytic LCVD.- 4. Pyrolytic LCVD Modeling.- 5. Photolytic LCVD Modeling.- A.1. Definitions of Energy Density, Irradiance, and Intensity.- A.2. Thermal Stress Analysis.- A.3. Volumetric Absorption Rate.- Nomenclature.- References.

Dettagli sul prodotto

Autori Aravinda Kar, Mazumder, J Mazumder, J. Mazumder
Editore Springer, Berlin
 
Lingue Inglese
Formato Tascabile
Pubblicazione 14.11.2013
 
EAN 9781489914323
ISBN 978-1-4899-1432-3
Pagine 396
Dimensioni 152 mm x 22 mm x 229 mm
Peso 589 g
Illustrazioni XII, 396 p.
Serie Lasers, Photonics, and Electro-Optics
Lasers, Photonics, and Electro-Optics
Categoria Scienze naturali, medicina, informatica, tecnica > Tecnica > Elettronica, elettrotecnica, telecomunicazioni

Recensioni dei clienti

Per questo articolo non c'è ancora nessuna recensione. Scrivi la prima recensione e aiuta gli altri utenti a scegliere.

Scrivi una recensione

Top o flop? Scrivi la tua recensione.

Per i messaggi a CeDe.ch si prega di utilizzare il modulo di contatto.

I campi contrassegnati da * sono obbligatori.

Inviando questo modulo si accetta la nostra dichiarazione protezione dati.