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Il microplasma sta diventando un argomento importante nella comunità del plasma. I microplasmi comprendono le scariche a catodo cavo (MHCD), i microgetti e le scariche a barriera dielettrica (DBD). Tutti possono funzionare a pressione atmosferica e sono plasmi non di equilibrio. Tra questi diversi tipi di microscariche, le MHCD appaiono come una configurazione di dispositivo molto promettente per pilotare corrente continua o alternata attraverso diversi gas. In questo particolare reattore, il microplasma stabile è confinato all'interno di una cavità. Sebbene siano state proposte numerose configurazioni di dispositivi MHCD, non sono ancora stati presentati sistemi integrati che coinvolgano MHCD e microelettronica. L'obiettivo di questo lavoro pubblicato è quello di proporre diversi tipi di microreattori al silicio realizzati con tecniche di microfabbricazione, caratterizzarli mediante diagnostica elettrica e ottica e testarli in parallelo per il trattamento dei gas. In questo modo, si intende fornire una migliore comprensione dei fenomeni fisici legati alle matrici di microscariche realizzate in silicio.
About the author
Mukesh Kumar Kulsreshath ha conseguito il M.Sc. (Fisica) presso la G.N.D.U., Amritsar, India, e il M.Ed. presso la PU Chandigarh, India. Inoltre, ha conseguito l'Erasmus Mundus M.S. in Fotonica presso l'Università di Ghent, Belgio, e l'Università di St. Andrews, Scozia, Regno Unito; ha conseguito il dottorato di ricerca presso il GREMI Lab. - Université d'Orléans, Francia.
