Physical Vapor Deposition of Thin Films

Informationen zum Autor JOHN E. MAHAN, PhD, is Professor of Electrical Engineering at Colorado State University. Klappentext Vom entspiegelten Brillenglas bis zur CD und zum Festplattenlaufwerk: Dünne Schichten mit speziellen optischen oder magnetischen Eigenschaften werden immer verbreiteter eingesetzt! Eine Methode der Herstellung solcher Schichten, die physikalische Abscheidung aus der Gasphase, bildet das zentrale Thema dieses Buches. Ebensogut als Lehrbuch wie als Nachschlagewerk für die Berufspraxis geeignet! (11/99) Zusammenfassung This volume examines physical vapour deposition, one of the main methods for preparing thin films for integrated circuit manufacturing and many other high-tech industries. It introduces unified treatment of the field of physical vapour deposition, drawing on a wide range of physical science. Inhaltsverzeichnis Introduction to Physical Vapor Deposition. The Kinetic Theory of Gases. Adsorption and Condensation. Principles of High Vacuum. Evaporation Sources. Principles of Sputtering Discharges. Sputtering. Film Deposition. Index.

Product details

• Authors: John E. Mahan, John E. (Colorado State University) Mahan, MAHAN JOHN E, Mahan John E.
• Publisher: Wiley, John and Sons Ltd
• Languages: English
• Product format: Hardback
• Released: 08.02.2000
• EAN: 9780471330011
• ISBN: 978-0-471-33001-1
• No. of pages: 340
• Subjects: Natural sciences, medicine, IT, technology > Technology > General, dictionaries; Materialwissenschaften, Beschichten, Materials science, Atomic and Molecular Physics, Spezialthemen Materialwissenschaften, Materials Science Special Topics, Electronic devices and materials, Dünnschichttechnik