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I film sottili svolgono un ruolo importante nello sviluppo e nello studio di materiali con proprietà nuove e uniche. I film sottili sono molto utili nel mondo moderno per il loro vantaggio di modificare le proprietà della superficie di un materiale sfuso in base alle nostre esigenze. I film sottili possono essere depositati su materiali sfusi mediante due tipi di processi: la deposizione fisica da vapore e la deposizione chimica da vapore. L'obiettivo principale del presente lavoro è sintetizzare un rivestimento a base di nitruro di tantalio su substrati di vetro, silicio, ottone e acciaio dolce utilizzando il processo di sputtering magnetronico a radiofrequenza. Abbiamo studiato l'effetto del tempo di deposizione e della variazione della portata di azoto sulle proprietà strutturali e tribologiche del rivestimento a base di nitruro di tantalio. Il tempo di deposizione del rivestimento è stato variato da 20 a 80 minuti. La portata di azoto è stata variata da 5 a 30 sccm. Per determinare la struttura e la topografia superficiale del rivestimento sono stati utilizzati il diffrattometro a raggi X (XRD) e la microscopia a forza atomica (AFM). Per determinare le proprietà tribologiche del rivestimento è stato utilizzato il tribometro a disco.
About the author
Je suis M. DivyeshKumar Dave, directeur du département de génie mécanique de l'école d'ingénieurs Tuwa, Godhara, Gujarat. J'ai publié plus de 28 articles de recherche dans des revues réputées. J'ai plus de 11 ans d'expérience dans ma carrière professionnelle.
