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Les films hautement conducteurs et transparents ont de nombreuses applications importantes telles que les électrodes transparentes pour les dispositifs optoélectroniques et les miroirs thermiques transparents pour l'utilisation de l'énergie solaire. Bien que les films minces d'oxyde d'indium et d'étain (ITO) soient généralement utilisés pour des applications pratiques, l'ITO est un matériau relativement cher car l'indium n'est pas abondant. Récemment, les films minces de ZnO dopés à l'aluminium ont suscité un intérêt en tant que matériau de revêtement transparent et conducteur, car le faible coût de ce matériau le rend attrayant pour les applications à grande échelle. Dans ce livre, les conditions de dépôt optimisées pour la préparation de films minces de ZnO dopé à l'Al par la méthode de pulvérisation magnétron DC réactive seront discutées. Les propriétés structurelles, morphologiques de surface, électriques et optiques des films minces de ZnO dopé à l'Al ont été systématiquement rapportées.
About the author
Dr. B. Rajesh Kumar, Profesor Asistente, Departamento de Física, GITAM (Deemed to be University), Visakhapatnam, A.P, India Dr. B. Hymavathi, Profesor Asistente, Departamento de Física, ANITS, Visakhapatnam, A.P, India Prof. T. Subba Rao, Facultad UGC-BSR, Departamento de Física, Universidad Sri Krishnadevaraya, Anantapur, A.P, India
