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Questo articolo presenta il modello progettato per l'analisi di immagini contenenti modelli di diffrazione, nonché il software sviluppato per effettuare misure di angoli e distanze tra i diversi punti caratteristici (segnali) inclusi nei modelli oggetto di studio da parte dei ricercatori del Centro di Ricerca sui Materiali Avanzati (CIMAV). La ragione principale per lo sviluppo di questo sistema è che i ricercatori devono eseguire manualmente il processo di analisi e indicizzazione dei modelli di diffrazione, un compito che diventa noioso e soggetto all'errore umano. Questo è il motivo per cui lo strumento è stato progettato per automatizzare e assistere nell'indicizzazione dei pattern nelle immagini, facilitando il processo di rilevazione del segnale e ottenendo così una misurazione più accurata tra gli elementi del pattern di diffrazione analizzato.
About the author
Tania Campos obtuvo la Maestría Sistemas Computacionales en el área de Inteligencia Artificial en el TecNM campus Chihuahua II en 2016. Es coautora del artículo Method for Signals Detection in Single Crystal Diffraction Patterns through a Diffraction Pattern Indexing Software publicado en el Journal of Mechanics Engineering and Automation en 2015.
