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Donneurs thermiques dans le silicium Czochralski

French, German · Paperback / Softback

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Le silicium de type Czochralski (Cz-Si) dopé au bore est caractérisé par une forte contamination en oxygène. Il se forme, ainsi, au cours du refroidissement du lingot de silicium, une variété de défauts et des complexes d'oxygène actifs. Dans ce livre, nous identifiant par spectroscopie infrarouge les différents complexes liées à l'oxygène interstitiel ainsi que leurs effets sur les propriétés électriques avant traitement thermique et après recuit sous atmosphère contrôlée d'azote, pour une gamme de température comprise entre 450 °C et 800 °C. Nous testons, aussi, l'effet de l'histoire thermique sur la formation des complexes d'oxygène en adoptant le processus du recuit cumulatif multi-étapes.

About the author










Besma Moumni est Docteur en Physique au CRTEn, TECHNOPÔLE DE BORJ CEDRIA. Faculte Des Sciences de Tunis, UNIVERSITÉ DE TUNIS EL MANAR. Abdelkader Ben Jaballah est Maitre-Assistant au CRTEn, TECHNOPÔLE DE BORJ CEDRIA. Maitre-Assistant en Physique Faculté de Science et des Arts de Samtha, UNIVERSITÉ DE JAZAN, ARABIE SAOUDITE.

Product details

Authors Abdelkader Ben Jaballah, Besm Moumni, Besma Moumni
Publisher Éditions universitaires européennes
 
Languages French, German
Product format Paperback / Softback
Released 04.05.2017
 
EAN 9783330865808
ISBN 978-3-33-086580-8
No. of pages 76
Subject Natural sciences, medicine, IT, technology > Physics, astronomy > Miscellaneous

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