Películas Delgadas de Óxido de Zinc Impurificado con Aluminio - Dispositivos Semiconductores

En este trabajo se estudió la influencia de la concentración del dopante y de la temperatura del sustrato sobre la composición, la morfología y las propiedades eléctricas de películas delgadas de óxido de zinc impurificadas con aluminio (ZnO:Al). El crecimiento de las películas delgadas se realizó por medio de la técnica de rocío pirolítico neumático sobre sustratos de vidrio sodocálcico. La metodología empleada para la formación de la película fue una disolución de partida 0.2 M de pentaneidonato de zinc y pentaneidonato de aluminio.

About the author

Luis Castañeda Aviña se graduó de la Licencitura en Física en 1998 por la Universidad Nacional Autónoma de México (UNAM). En 2003, recibió su grado de Doctorado en Ciencia e Ingeniería de Materiales por la misma Universidad. L. Castañeda ha trabajado por varios años dentro del campo de preparación de óxidos metálicos semiconductores.

Product details

• Authors: Luis Castañeda Aviña
• Publisher: Editorial Académica Española
• Languages: Spanish
• Product format: Paperback / Softback
• Released: 23.12.2013
• EAN: 9783659085505
• ISBN: 978-3-659-08550-5
• No. of pages: 60
• Subject: Natural sciences, medicine, IT, technology > Chemistry > Physical chemistry