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In Anbetracht der rasch wachsenden Bedeutung der Oberflächenanalytik schien es angebracht, die drei Methoden, welche bereits in einem sehr hohen Maße für die industrielle und forschungsbezogene Routineanalytik eingesetzt und häufig mit einander kombiniert werden, nämlich SIMS, AES und XPS in einer Monographie darzustellen. Um die notwendige Tiefe der Darstellung zu erreichen, wurde dieses Buch nicht von einem Autor verfaßt, sondern greift auf drei verschiedene Autoren mit unter schiedlichen Spezialkenntnissen zurück. Dies garantiert dem Leser die direkte Ver mittlung von theoretischem und experimentellem Wissen auf entsprechendem Niveau für die jeweiligen methodischen Teilgebiete. Anderseits ergeben sich dadurch gewisse Unterschiede in der Darstellungsweise und Symbolik zwischen den drei Kapiteln. Dies ist aber sicherlich von untergeordneter Bedeutung im Vergleich zu der durch Experten zu vermittelnden inhaltlichen Substanz. Die einzelnen Kapitel behandeln SIMS, AES und XPS hinsichtlich methodischem Prinzip, physikalischen Grundlagen, Gerätetechnik, amilytischem Informationsgehalt, qualitativer und quantitativer Analyse und praktischem Einsatz für aktuelle Frage stellungen der Oberflächenanalyse von Festkörpern - insbesondere aus dem Bereich der Werkstoffentwicklung. Die in den einzelnen Kapiteln angeführten Ergebnisse wurden im übrigen mit Hochleistungsgeräten der neuesten Generation erhalten, so daß der derzeitig aktuelle Leistungsstand der- Methodik dargestellt wird. Der Leser soll damit nicht nur eine Methode im Detail kennenlernen können, sondern auch durch die Anführung zahlreicher für das experimentelle Arbeiten wichtiger Daten einen Einstieg in den praktischen Einsatz der Methoden erhalten.
List of contents
Sekundär-Ionen-Massenspektrometrie.- Auger-Elektronen-Mikroanalyse Grundlagen und Anwendungen.- Röntgen-Photoelektronen-Spektrometrie.
