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Un estudio mediante técnicas de análisis de superficies dos sistemas de interés nanotecnológico: Películas ultradelgadas de Fluoruro de aluminio y Silicio nanoporoso. El primero es un aislador, tecnológicamente útil como resina electrolitográfica, que permite la fabricación de películas de espesor nanométrico. Durante los procedimientos usuales de fabricación de dispositivos "top-down" el bombardeo iónico y electrónico que se utiliza para producir patrones, puede afectar la resina debido a la producción de electrones secundarios. Por otra parte el silicio nanoporoso es un material compuesto de nanohilos de Silicio. Los interesantes fenómenos de confinamiento cuántico que en el se observan lo convierten en una promesa en el campo de la optoelectronica. Ademas su integracion en componentes micro y nanoelectronicos mediante el paradigma "bottom-up" de fabricación motiva el estudio de sus popiedades de emision fotónica y electrónica.
About the author
Nacido en Argentina estudió Ingeniería Química en la Universidad Nacional Salta. Luego su interés por la investigación tecnológica lo condujo hacia la física de superficies y semiconductores realizando un doctorado en la Universidad Nacional del Litoral. Actualmente investiga sistemas autoensamblados en el Centro Atómico Bariloche.
