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Untersuchung der Auflösungsgrenzen eines Variablen Formstrahlelektronenschreibers mit Hilfe chemisch verstärkter und nicht verstärkter Negativlacke.
German
01.01.2011
Paperback / Softback
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Die Kinetik der elektrochemischen Kupferabscheidung in Sub-100-nm-Strukturen.
German
01.01.2011
Paperback / Softback
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Characterization and chemical recovery of plasma damaged porous low-k SiOCH dielectric for the semiconductor industry.
English
01.01.2012
Paperback / Softback
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